Ultra Clean Technology / Super Clean Room

ウルトラクリーン技術の詳細

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 ウルトラクリーン技術の詳細

東北大学では、ウルトラクリーン技術を提唱するとともに、次世代半導体生産に必要となる技術を開発されてきました。この技術は、国内だけでなく海外の主要半導体メーカーのいくつかの最先端半導体工場に実際に導入され、生産性を飛躍的に高めたことで、その有効性が広く知られています。
さらに先端精密加工に必要となる、「完全に揺らぎのない製造ライン – Perfect Scientific Manufacturing」の実現に必要な技術要素を、ウルトラクリーン3原則として体系化されてきました。

ウルトラクリーン化3原則

 

1. ウルトラクリーン表面 Ultra Clean Wafer Surface

(1) 粒子汚染がない Free from particles
(2) 金属汚染がない Free from metal impurities
(3) 有機物汚染がない Free from organic impurities
(4) 自然酸化膜がない Free from unintended native oxide
(5) 原子スケールで表面凹凸がない Maintained atomic-order “micro-roughness”
(6) 表面が完全に水素で終端されている With top surface completely terminated with hydrogen
(7) 水分吸着がない Free from moisture
(8) 帯電していない Free from charge-up

 

2. Ultra Clean Processing Environment

 

3. Perfect Process-Parameter Control

東北技術株式会社は、生産技術として東北大学で開発されたウルトラクリーン技術体系をベースに、精密加工を必要とするあらゆる産業界との共同開発、製品開発、また大学との橋渡しの一端を担う所存です。

 

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